Empyrean Vision
在半导体制造中，良率是衡量制造工艺和质量控制水平的一项重要指标。 Empyrean Vision®为用户提供了覆盖从Design->Mask->Wafer->Product的全流程版图与工艺诊断分析平台，共包含5款工具： Empyrean Vision®、 Empyrean Vision® PD、 Empyrean Vision® CA、 Empyrean Vision® ID、Empyrean Vision® HP。实现从工艺传递影响良率的版图特征到设计，指导设计提前规避风险，实现协同优化。
Vision平台工具提供了强大的版图查看、分析的工具组件，能够快速读取版图数据，可对版图进行量测/密度等分析操作，并提供量检测数据分析以及DFT诊断报告分析等解决方案。
Vision PD工具提供了高效的pattern匹配和pattern库管理方案。用户可以从版图中获取pattern创建pattern库，并进行pattern库比对、归类、采样，支持编辑pattern并添加匹配规则，对目标版图进行快速匹配，查看匹配结果。
Vision CA工具提供了快速、准确地提取先进制程中大规模版图（包括逻辑和存储）关键区域的功能，提取的Care Area可以与大部分检测机台及机型兼容。
Vision ID工具提供了通过传统以及基于AI的图像轮廓提取方法，支持各种量检测设备的单层、多层图像轮廓提取，结合版图对信息进行offline大规模量测，识别潜在工艺薄弱点，可以进行高效、准确的缺陷分析。
Vision HP工具利用实际silicon数据来训练AI模型，可对原始版图预测其最终在晶圆上呈现的图像轮廓，结合版图信息自动识别潜在热点，进行早期良率风险预警。
